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掩模版缺陷检测仪Mask blanks defectd detection system

掩模版缺陷检测仪

Mask blanks defectd detection system

型号：MDS500

产品介绍：

用途：MDS500用于掩模版表面缺陷的快速检测、分析和定位。

原理：采用高灵敏度高通量的成像系统，使用散射能量法和计算光学进行缺陷审查。

精度：0.5μm的缺陷检测灵敏度。

效能：自动缺陷分类，提供超高分辨复检。

    掩模版缺陷地图                    超高分辨复检                   自动缺陷分类

应用领域：

1. 1. 石英基板的出货或进货检查和审查（清洁或抛光后）；
   2. 铬或氧化铬沉积后的缺陷检查和审查；
   3. 光刻胶涂层后的缺陷检查和审查；

半导体空白掩模版光学加工领域，可用于掩模版抛光、镀膜、镀铬等工艺的质量控制。

技术规格：

基本尺寸：尺寸152mm×152mm、厚度6mm；

检测产品：空白掩模版；

光学系统：检测口径152mm×152mm、空间辨析度170nm、分辨率5120×5120；

载物平台：200mm×200mm；

光源规格：407nm；